新開発
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薄膜太陽電池用レーザパターニング装置
グリーンスクライバー
本装置は、薄膜太陽電池に成膜されている、透明電極、アモルファス・シリコン膜、及び、裏面電極をパターニングする装置です。レーザ波長1064nmまたは、532nmを出力し、基板サイズ1400mm×1100mmの基板をスクライビングします。
加工速度は1500mm/SEC.です。
進化した独自の集塵方式OSCシステムを搭載しております。
特長
装置特長はレーザビームをガラス表面側(上側)より透過させて、裏面側(下側)の薄膜加工を行うことにあります。
そのためにガラス裏面より発生する塵埃(アブレーション)を吸引する方法が難しく、課題となっていました。
その課題を克服したのが、独自の吸塵方法OSCシステム(特許取得済)です。
ガラス表面側からレーザ加工すると発生する塵埃(アブレーション)が表面に付着してしまうといった問題を防ぐために表面側からレーザビームを透過させて裏面側の加工をする手法の難問を解決したのが大きなポイントです。
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薄膜太陽電池用レーザパターニング装置
本装置は、薄膜太陽電池に成膜されている、透明電極、アモルファス・シリコン膜、及び、裏面電極をパターニングする装置です。レーザ波長1064nmと532nmを出力し、基板サイズ1400mm×1100mmの基板をエッチングします。
加工速度は800mm/SEC.です。
独自の集塵方式により、特許を取得しております。
仕様・外観は 改良のため、予告なく変更する事があります。
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